元素成分分析
文章正文
JC/T 2133—2012半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素量的测定
标准范围:
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。
本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括:铝、钡、钙、 络、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。
14种元素的检测范围
规范性引用文件:
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T 602化学试剂杂质测定用标准溶液的制备
GB/T 6682分析实验室用水规格和试验方法
标准提要:
试样通过相应的稀释处理或直接进样,在电感耦合等离子体炬焰中激发,发射出所含元素的分析线, 根据待测元素分析线的强度测定相应元素的含量。
分析步骤:
1.试样处理。
2.校准曲线。
3.测定。
不确定度评定:
不确定度评定依照CNAS-GL06《化学分析中不确定度的评估指南》中提供的方法进行(具体评定方法参见附录B)。被测元素含量范围在0.01 μg/mL〜1μg/mL之间,测量不确定度应小于该元素测量值的10%;被测元素含量范围在1μg/mL〜20μg/mL之间,测量不确定度应小于该元素测量值的5%。
 
----------------------------------------------------------------------------------------------------------------------
----------------------------------------------------------------------------------------------------------------------
Copyright EcoSafene   备案号:闽ICP备09009213号-1